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400kHz-9MHz兆聲波數字發生器 半導體用 這款數字發生器專為兆聲波清洗應用設計，通過提供400kHz至9MHz的高頻電源，實現極的致的清洗精度與效率。它憑借智能互聯與緊湊的模塊化設計，主要適用于對潔凈度要求極的高的半導體制造、精密電子及光學元件等行業。
更新時間：2026-07-25
Sonosy兆聲波清洗機發生器換能器 儀器 13790-023 400 kHz 5 MHz 兆聲波噴嘴中的換能器產生兆聲波，通過流動介質（例如去離子水）傳遞到基板表面。兆聲波能量集中在2毫米或4毫米的窄點上。
更新時間：2026-06-10
Sonosys Megasonic 兆聲波清洗機發生器儀器 13790-023 400 kHz 到 5 MHz ，兆聲波噴嘴中的換能器產生兆聲波，通過流動介質（例如去離子水）傳遞到基板表面。兆聲波能量集中在2毫米或4毫米的窄點上。SONOSYS® 兆聲波噴嘴的頻率有600kHz / 1MHz / 2MHz / 3MHz / 4MHz / 5MHz和9MHz。頻率越高，清洗越溫和
更新時間：2026-06-10
ProSys儀器MegPie V3兆聲波Megasonic換能器，該產品主要用于半導體制造中的晶圓清洗和聲化學處理。
更新時間：2026-06-10
SONOSYS 超聲波發生器 2MHz+4MHz 兆聲 噴嘴 MSMO032090E / 13407-091，該產品是SONOSYS®兆聲波霧化系統，通過高頻聲波將液體霧化成約3微米的微細顆粒。主要用于半導體晶圓、平板顯示器及太陽能電池等領域的精密噴霧、化學品分配和微清洗，確保高精度與無顆粒污染的工藝要求
更新時間：2026-07-25
IMTEC Accumeg 半導體納米 兆聲波清洗槽 UO1200PMCA 發生器，Accumeg™系統主要用于半導體晶圓（最大支持300毫米及以上）和電子元件的高精度清洗。其核心功能是利用兆聲波技術（頻率為975 kHz或730 kHz）進行濕法工藝處理，有效去除微小顆粒污染物。該設備提供石英和PVDF兩種槽體材質，具備高功率密度和溫度控制能力（最高達70°C或130°C）......
更新時間：2026-07-07
Kokusai 高頻超聲波清洗機 晶圓/光刻掩模用 UO1200PMCX，該產品主要用于半導體制造領域的高精度清洗，適用行業為半導體產業。其具體用途包括半導體晶圓、光刻掩模、裸片最終清洗以及半導體制造設備治具的清洗，旨在滿足微縮工藝下的低損傷、高潔凈度清洗需求。
更新時間：2026-07-07
Kokusai Electric晶圓兆聲波清洗機 振動板，UO1200PMCX 730kHz/1MHz，該產品是用于半導體制造的高頻超聲波振子，通過730kHz或1MHz頻率實現低損傷、高潔凈度清洗。主要適用于晶圓、光刻掩模等精密清洗環節，是半導體行業關鍵制程設備的核心組件。
更新時間：2026-07-07 Sonosys 兆聲波數字顯示屏電源發生器Modbus 這款產品是專為兆聲波清洗應用設計的高的端的數字電源。它通過高精度的數字技術，實現對清洗過程的精準功率控制，確保清洗效果。主要適用于半導體、電子元件、精密光學及醫療器械等需要高精度清洗的行業。
更新時間：2026-07-27
德國sonosys 微顆粒無損 高頻超聲波清洗機 750kHz~4MHz，SONOSYS超音波清洗器利用20kHz~4MHz寬頻超音波振動，對精密部件進行高效清洗，其中高頻兆聲波（750kHz~4MHz）專攻亞微米級顆粒去除，同時不損傷工件表面，清洗時間約10~30分鐘，廣泛適用于半導體晶圓、光學鏡頭、MEMS傳感器、醫療器材及航空航天精密零件等對潔凈度和表面完整性要求非常高的行業。
更新時間：2026-07-25
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