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產品型號：UO1200PMCA 發生器
更新時間：2026-07-07簡要描述：IMTEC Accumeg 半導體納米 兆聲波清洗槽 UO1200PMCA 發生器，Accumeg™系統主要用于半導體晶圓（最大支持300毫米及以上）和電子元件的高精度清洗。其核心功能是利用兆聲波技術（頻率為975 kHz或730 kHz）進行濕法工藝處理，有效去除微小顆粒污染物。該設備提供石英和PVDF兩種槽體材質，具備高功率密度和溫度控制能力（最高達70°C或130°C）......
| 品牌 | 其他品牌 | 應用領域 | 環保,化工,能源,電子/電池,綜合 |
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超長保修：提供長達 **個月的全面保修。
兼容性：支持最大 300 毫米及更大的晶圓基板，提供卡帶式與無卡帶式設計。
維護便捷：配備現場可更換的換能器陣列，便于維修和保養。
高性能：具備高功率密度，工作溫度可達 70°C。
兆聲波頻率：提供 975 kHz 和 730 kHz（±25 kHz）兩種頻率選項。
槽體材質：可選石英、PVDF 或 PFA。
換能器組件：采用 316L 電解拋光或 PFA/PTFE 涂層不銹鋼板，電纜為 25 歐姆聚四氟乙烯護套（長 5 米）。
溫度范圍：邊界層系統最高工作溫度為 130°C，直接式系統為 65°C。
電氣標準：工作電壓為 208-230 VAC（單相），符合 CE 指令并通過第三方認證。
系統類別：包括 Wet Benches（濕法臺）、Single Wafer（單晶圓）、FOUP/FOSB Cleaner（晶圓傳送盒清洗）及 Marangoni Dryer（馬蘭戈尼干燥器）。
組件支持：涉及 Genius Gather（天才匯聚）、Kaiqiao（凱喬）、White Knight、SEBA 等組件。
納米技術：3D 納米雕刻、無掩模微加工、大距離無縫納米圖案化。
新能源與電子：薄膜太陽能電池、ITO（氧化銦錫）處理。
前沿科技：生物成像、生物醫學設備涂層、量子技術。
IMTEC Accumeg 半導體納米 兆聲波清洗槽 UO1200PMCA 發生器，Accumeg™系統主要用于半導體晶圓（最大支持300毫米及以上）和電子元件的高精度清洗。其核心功能是利用兆聲波技術（頻率為975 kHz或730 kHz）進行濕法工藝處理，有效去除微小顆粒污染物。該設備提供石英和PVDF兩種槽體材質，具備高功率密度和溫度控制能力（最高達70°C或130°C）......
IMTEC Accumeg 半導體納米 兆聲波清洗槽 UO1200PMCA 發生器，Accumeg™系統主要用于半導體晶圓（最大支持300毫米及以上）和電子元件的高精度清洗。其核心功能是利用兆聲波技術（頻率為975 kHz或730 kHz）進行濕法工藝處理，有效去除微小顆粒污染物。該設備提供石英和PVDF兩種槽體材質，具備高功率密度和溫度控制能力（最高達70°C或130°C）......
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