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產品型號：UO1200PMCX
更新時間：2026-07-07簡要描述：Kokusai 高頻超聲波清洗機 晶圓/光刻掩模用 UO1200PMCX，該產品主要用于半導體制造領域的高精度清洗，適用行業為半導體產業。其具體用途包括半導體晶圓、光刻掩模、裸片最終清洗以及半導體制造設備治具的清洗，旨在滿足微縮工藝下的低損傷、高潔凈度清洗需求。
| 品牌 | 其他品牌 | 應用領域 | 環保,化工,能源,電子/電池,綜合 |
|---|
低損傷、高精度清洗：通過高精度的輸出功率反饋控制，即使在低功率下也能保持穩定，有效清洗的同時大幅降低對精密半導體器件的損傷。
高效率與緊湊設計：相比以往機型，能耗降低了 15%，同時體積和重量均減少了 30%，更加節能且節省空間。
頻率固定：采用固定頻率振蕩，確保石英槽的超聲波透過率始終保持一致，清洗效果穩定可靠。
遠程控制：支持遠程控制功能，便于集成到自動化生產線中進行操作。
半導體晶圓清洗
光刻掩模版清洗
裸片（Die）的最終清洗
半導體制造設備治具清洗
| 項目 | 規格 |
|---|---|
| 類型 | UO1200PMCX |
| 振蕩模式 | 單頻 |
| 額定功率 | 1200瓦 |
| 輸出調節范圍 | 3 至 1200瓦 |
| 可選頻率 | 730 kHz 或 1 MHz |
| 遠程控制 | 支持 |
| 電源 | 單相 AC200V～230V ±10%，50/60Hz |
| 外形尺寸 | 360mm (寬) × 150mm (高) × 480mm (深) |
| 重量 | 14kg 以下 |
該產品符合 CE、FCC（需另購噪聲濾波器）及 Semi-F47 等相關標準。
Kokusai 高頻超聲波清洗機 晶圓/光刻掩模用 UO1200PMCX，該產品主要用于半導體制造領域的高精度清洗，適用行業為半導體產業。其具體用途包括半導體晶圓、光刻掩模、裸片最終清洗以及半導體制造設備治具的清洗，旨在滿足微縮工藝下的低損傷、高潔凈度清洗需求。
Kokusai 高頻超聲波清洗機 晶圓/光刻掩模用 UO1200PMCX，該產品主要用于半導體制造領域的高精度清洗，適用行業為半導體產業。其具體用途包括半導體晶圓、光刻掩模、裸片最終清洗以及半導體制造設備治具的清洗，旨在滿足微縮工藝下的低損傷、高潔凈度清洗需求。
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