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產品型號：SIT-200 / SIT-2008
更新時間：2026-07-08簡要描述：Alnair Labs Si/硅晶圓厚度測量儀 實時監測 SIT-200 / SIT-2008 為非接觸式硅晶圓激光厚度傳感器，可在濕法刻蝕中原位實時測厚，能測量形貌粗糙的晶圓，完成晶圓厚度監測、刻蝕進程管控。主要用于芯片代工、MEMS 器件、半導體材料制造行業，適配晶圓濕法刻蝕、薄片來料質檢、晶圓減薄等半導體制程厚度檢測。
| 品牌 | 其他品牌 | 產地類別 | 進口 |
|---|---|---|---|
| 應用領域 | 環保,化工,能源,電子/電池,綜合 |
硅晶圓厚度傳感器 SIT-200 是一款由 Alnair Labs 公司開發的，核心優勢在于能在苛刻的工業環境下，對表面不平整的晶圓進行快速、非接觸式的精確測量。
全光學、非接觸式硅晶圓厚度傳感器
高動態范圍，可測量不規則表面
可在濕法蝕刻過程中進行原位測量
| 高靈敏度 | 高精度 | 20ms 高速測量 | 遠程 |
|---|
系統構成
硅晶圓厚度傳感器由精確調諧的波長掃描激光光源、聚焦傳感器和光接收器（PD）構成。波長掃描光聚焦在目標上，由目標表面反射形成的干涉圖案，在通過傳感器后被光電二極管（PD）檢測。
規格
| 項目 | 規格 |
|---|---|
| 測量目標 | 硅晶圓 |
| 光源 | 波長掃描激光源 (1515 ~ 1585 nm) |
| 測量厚度范圍 | 10 ~ 500 µm (n=3.5) |
| 光輸出功率 | 0.6 mW，激光等級 1 |
| 導引光源 | 紅色激光二極管，激光等級 1M |
| 測量時間 | 最短 20 ms |
| 重復性 | 小于 0.1 µm (3σ) |
| 監控輸出 | 干涉信號 (電信號) |
| PC 接口 | 以太網 |
| 電源 | AC 100-240 V (50 / 60 Hz) |
| 外形尺寸 (寬 x 高 x 深) | 364 x 147 x 391 mm |
| 重量 | 9.0 kg |
以上規格如有變更，恕不另行通知。
應用：晶圓厚度監測、濕法蝕刻過程中的實時測量、光學傳感器、晶圓。
Alnair Labs Si/硅晶圓厚度測量儀 實時監測 SIT-200 / SIT-2008 為非接觸式硅晶圓激光厚度傳感器，可在濕法刻蝕中原位實時測厚，能測量形貌粗糙的晶圓，完成晶圓厚度監測、刻蝕進程管控。主要用于芯片代工、MEMS 器件、半導體材料制造行業，適配晶圓濕法刻蝕、薄片來料質檢、晶圓減薄等半導體制程厚度檢測。
Alnair Labs Si/硅晶圓厚度測量儀 實時監測 SIT-200 / SIT-2008 為非接觸式硅晶圓激光厚度傳感器，可在濕法刻蝕中原位實時測厚，能測量形貌粗糙的晶圓，完成晶圓厚度監測、刻蝕進程管控。主要用于芯片代工、MEMS 器件、半導體材料制造行業，適配晶圓濕法刻蝕、薄片來料質檢、晶圓減薄等半導體制程厚度檢測。
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