咨詢電話
13691609757
products
產品分類
產品型號：WS-650-8B
更新時間：2026-07-16簡要描述：Laurell ø200mm晶圓 濕法旋涂儀勻膠機 清洗 WS-650-8B，是一款臺式旋涂儀，主要用于在晶圓或基片上進行涂覆、刻蝕、顯影、清洗等精密工藝。它廣泛應用于半導體、生物技術和納米技術等行業。
| 品牌 | 其他品牌 | 產地類別 | 進口 |
|---|---|---|---|
| 應用領域 | 環保,化工,能源,電子/電池,綜合 |
緊湊設計：作為一款臺式設備，WS-650-8B 結構緊湊，節省實驗室空間。
強的大的兼容性：能夠處理直徑達 200毫米 的晶圓以及 7英寸×7英寸（178毫米×178毫米）的基片。
高性能驅動：最高轉速可達 12,000轉/分鐘（以100毫米硅晶圓為基準），滿足高精度涂覆需求。
智能控制：配備650系列過程控制器，采用高性能微處理器，允許操作員在流程中實時交互（如暫停、停止、繼續）。系統支持通過PC軟件進行遠程操作、記錄和編程，并可進行固件升級。
卓的越的耐化學性：設備外殼由勞雷爾自家研發的固態共聚物混合材料制成，能耐受溶劑、強酸和強堿。也可選配特氟龍®（Teflon®）外殼，適用于高溫化學工藝。
潔凈工藝：采用封閉式腔體設計和專有的迷宮式密封，可有效防止化學品污染電機和電子元件，并支持氮氣吹掃，確保在亞微米級別上無顆粒污染。
多重安全保障：具備完的善的電氣隔離、防誤操作門聯鎖，并通過了ETL、UL、CSA、CE和RoHS等多項安全認證，確保長期安全穩定運行。
工藝保護：獨特的“工藝保護"功能可防止在同一基片上意外重復運行相同工藝，避免操作失誤。
卡盤與適配器：提供數千種標準和定制的卡盤或適配器。
安裝方式：支持臺面安裝、濕法工作臺內安裝（IND）和防震基座安裝（OND）。
真空系統：可選配集成式可變氣動真空發生器（IV-PVG），無運動部件，易于清潔。
其他配件：包括可拆卸的工藝腔內襯、晶圓對準工具以及多種排氣和排液選項。
涂覆
刻蝕
顯影
沖洗-干燥
清洗
Laurell ?200mm晶圓 濕法旋涂儀勻膠機 清洗 WS-650-8B，是一款臺式旋涂儀，主要用于在晶圓或基片上進行涂覆、刻蝕、顯影、清洗等精密工藝。它廣泛應用于半導體、生物技術和納米技術等行業。
Laurell ?200mm晶圓 濕法旋涂儀勻膠機 清洗 WS-650-8B，是一款臺式旋涂儀，主要用于在晶圓或基片上進行涂覆、刻蝕、顯影、清洗等精密工藝。它廣泛應用于半導體、生物技術和納米技術等行業。
您的位置：
在線咨詢
返回頂部