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面向半導體精密制造:SONOSYS 兆聲波單/雙/三噴嘴的非接觸式清洗方案

更新時間:2026-07-16      瀏覽次數:1025
在半導體、平板顯示及精密光學等高的端的制造領域,對產品表面潔凈度的要求已逼近物理極限。任何納米級的顆?;蛭廴疚锒伎赡軐е铝悸氏陆瞪踔廉a品失效。如何在不損傷精密基片的前提下,實現高效、精準的清洗,成為行業面臨的核心挑戰。SONOSYS® 憑借其專有的兆聲波技術,為這一難題提供了創新的解決方案——兆聲波單/雙/三噴嘴系統。該系統代表了先進的無槽式、非接觸清洗工藝,專為滿足最嚴苛的潔凈度要求而設計。

面向半導體精密制造:SONOSYS 兆聲波單/雙/三噴嘴的非接觸式清洗方案

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核心技術:能量高度集中的非接觸清洗

SONOSYS® 兆聲波噴嘴系統的核心在于其獨特的能量傳遞方式。系統內置的換能器會產生高頻兆聲波,這些聲波通過流動的液體(如去離子水)作為介質,被精確地傳導至基片表面。
與傳統清洗方式不同,該技術能將兆聲波能量高度集中在一個直徑僅為 2 或 4 毫米的微小作用點上。這種“點對點"的精準清洗模式,不僅避免了清洗槽可能帶來的交叉污染,更實現了對特定區域的靶向清潔,確保了清洗過程的高效與可控。


產品系列:覆蓋多場景的頻率選擇

為應對不同尺寸顆粒和多樣化的應用需求,SONOSYS® 提供了豐富的產品頻率選擇,確保為特定工藝匹配最的優的解。
  • 標準高頻系列:1 MHz / 2 MHz / 3 MHz / 4 MHz / 5 MHz,適用于清除納米級別的微小顆粒和污染物。

  • 全新低頻選項600 kHz,專為清洗光學行業等領域中尺寸相對較大的顆粒而設計,擴展了技術的應用邊界。

此外,系統提供單噴嘴、雙噴嘴及三噴嘴等多種配置,可根據產線節拍和清洗面積靈活部署,最的大的化生產效率。


應用領域:賦能高精尖產業

憑借其卓的越的清洗性能,SONOSYS® 兆聲波噴嘴系統已廣泛應用于對潔凈度有極的致的追求的多個行業:
  • 半導體與微電子:單晶圓(Single Wafers)、光罩(Masks)、微機電系統(MEMS)的精密清洗。

  • 平板顯示:液晶顯示器(LCD)及其他各類基板的清洗。

  • 光學行業:利用 600 kHz 頻率有效清除光學元件表面的較大顆粒污染物。

  • 醫療器械:高價值醫療設備及高靈敏度傳感器的精密清洗。


關于 SONOSYS

SONOSYS® 專注于 400 kHz 至 5 MHz 高頻段的超聲波及兆聲波清洗技術,致力于解決納米級的清洗挑戰。自1995年成立以來,公司堅持全鏈條自主研發,產品覆蓋從發生器、采用專的利的壓電陶瓷的換能器板到浸沒式換能器及各類噴嘴,已發展成為歐洲兆聲波技術的領的軍的企業。





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