





產品型號:Micro Blast / 0.02μmRa
更新時間:2026-07-11簡要描述:Sinto 硅/玻璃硬脆材料干式蝕刻 微噴砂加工 Micro Blast / 0.02μmRa,這項技術主要用于玻璃、硅、陶瓷等硬脆材料的高精度微細加工,如鉆孔、開槽和切割。它適用于電子、半導體、傳感器及精密制造等行業。
| 品牌 | 其他品牌 | 產地類別 | 進口 |
|---|---|---|---|
| 應用領域 | 環保,化工,能源,電子/電池,綜合 |
日本新東工業(Sinto)關于其“微細加工技術"(Micro Blast)簡單來說,這是一種利用壓縮空氣將極細的磨料顆粒(10μm~70μm)高速噴射到工件表面,從而實現高精度微細加工的“干式蝕刻"技術。這項技術特別適合加工玻璃、硅、陶瓷等硬脆材料,因為它屬于冷加工,能極大減少微裂紋和材料變質。

工作原理:利用壓縮空氣,將10μm~70μm的微細磨料高速噴射到工件上,通過脆性破壞原理進行加工。
核心特點:屬于冷加工、干式工藝,因此產生的微裂紋和加工變質極少,精度高、品質好。
主要優勢:
干式無化學污染:不使用化學藥液,環保。
損傷?。簬缀醪划a生崩邊(Chipping)和裂紋(Crack)。
效率高:加工速率快,生產性高。
成本低:相比激光、蝕刻等方法,初期投入成本更低。
適用廣:可加工復雜形狀,對多種材料都有效。

鉆孔技術:在玻璃、硅、陶瓷等硬脆材料上加工通孔或盲孔。
精度:線寬可達50μm以上,深度誤差在±5%左右。
應用:傳感器基板、中介層基板的孔加工。
開槽技術:在材料上挖掘溝槽或流體通道。
精度:線寬可達50μm以上。
應用:嵌入式電極的溝槽、玻璃基板的流路、芯片實驗室(Lab-on-a-chip)的流路形成。
切割技術:將玻璃薄板等材料進行精細切割。
去除技術:
全面去除:100%去除表面的涂膜、鍍層、氧化物等。
部分去除:按特定圖案去除表面附著物,精度可達50μm。
分層去除:選擇性地去除頂層金屬層,用于絕緣處理等,最大去除深度可達20μm。

Sinto 硅/玻璃硬脆材料干式蝕刻 微噴砂加工 Micro Blast / 0.02μmRa,這項技術主要用于玻璃、硅、陶瓷等硬脆材料的高精度微細加工,如鉆孔、開槽和切割。它適用于電子、半導體、傳感器及精密制造等行業。
Sinto 硅/玻璃硬脆材料干式蝕刻 微噴砂加工 Micro Blast / 0.02μmRa,這項技術主要用于玻璃、硅、陶瓷等硬脆材料的高精度微細加工,如鉆孔、開槽和切割。它適用于電子、半導體、傳感器及精密制造等行業。